Substrate: la startup que desafía a ASML con litografía por rayos X

Contexto: Substrate irrumpe en la carrera por la fabricación de chips

Substrate, una startup estadounidense con sede en San Francisco, anunció el desarrollo de una herramienta revolucionaria para la fabricación de chips que promete competir directamente con los sistemas de litografía de ASML, compañía neerlandesa líder mundial y referente absoluto en la industria de semiconductores. Substrate busca reducir dramáticamente los costos de producción y apostar por una manufactura avanzada de chips en territorio estadounidense.

¿En qué consiste la innovación de Substrate?

La compañía ha desarrollado una tecnología de litografía por rayos X utilizando aceleradores de partículas. Este enfoque permite la creación de patrones a escala 2nm-class, igualando o incluso superando la resolución de la litografía EUV de ASML. El método de Substrate no solo aspira a mejorar la precisión, sino también a reducir el costo actual de fabricación de obleas de cerca de $100,000 a solo $10,000 para finales de la década. Además, la solución elimina la necesidad de múltiples pasos de patrón, simplificando procesos y abriendo la puerta a mejoras en eficiencia industrial.

El modelo de negocio: integración vertical y reto a TSMC

A diferencia de ASML, que vende maquinaria, Substrate planea crear y operar sus propias fábricas, ofreciendo manufactura bajo contrato y posicionándose como competidor directo de TSMC, líder global en foundries avanzadas. El objetivo es capitalizar esta nueva tecnología para recuperar el liderazgo estadounidense en la industria de chips, estratégico tanto por temas económicos como de seguridad nacional.

Apoyo, rondas de inversión y desafíos por delante

Substrate ha levantado más de 100 millones de dólares y fue valuada sobre 1.000 millones, lo que refleja la confianza de inversores. Además, ha gestionado conversaciones iniciales con gigantes como Intel y proyectos para instalar plantas multimillonarias, incluyendo una propuesta de 10 mil millones USD en colaboración con Texas A&M University. La startup ya ha realizado demostraciones exitosas, mostrando imágenes de alta resolución con su equipo tanto en laboratorios nacionales como en su sede de San Francisco.

No obstante, enfrenta retos técnicos y operativos relevantes: asegurar alineaciones precisas de menos de 1 nm, perfeccionar el manejo de obleas, y lograr integraciones viables en flujos de producción existentes, desafíos que a ASML le tomó décadas resolver. Además, la estrategia de operar como fabricante y desarrollador simultáneamente representa una prueba considerable para los recursos técnicos y financieros de Substrate.

Impacto para founders LATAM y oportunidades en semiconductores

Para founders latinoamericanos con foco en hardware e innovación, las apuestas de Substrate confirman una tendencia: la democratización tecnológica y la urgencia de integrar innovación en modelos propios. El avance de la litografía por rayos X podría habilitar, en el mediano plazo, acceso a chips de mejor desempeño y menor costo, impactando cadenas de valor regionales y abriendo oportunidades de colaboración tecnológica, inversión y especialización en la industria.

Conclusión

Substrate aspira a transformar la industria global de fabricación de chips mediante una tecnología de litografía radicalmente nueva, que pone en jaque el dominio de ASML y TSMC. La carrera está lejos de resolverse, pero el impulso de startups como Substrate representa una señal positiva para founders que buscan anticipar y capitalizar tendencias disruptivas en semiconductores.

Profundiza estos temas con nuestra comunidad de expertos…

Aprender con founders