Langdao Silex, la startup china de luz UVE para chips

Una fuente de luz ultravioleta extrema (UVE) estable es, hoy, el componente que separa a China de la fabricación de chips de vanguardia. La startup Langdao Silex, con sede en Shanghái, presentó un prototipo propio de sistema de generación de luz UVE del que afirma que el 90% de sus componentes son de fabricación nacional. Si esa cifra se sostiene en producción, cambia el mapa de proveedores de toda la industria de semiconductores.

La noticia importa a cualquier founder que dependa de silicio: precios de cómputo, disponibilidad de aceleradores para IA y hasta el costo de un servidor en la nube se mueven cuando se mueve la litografía.

¿Por qué la fuente de luz UVE es el cuello de botella más difícil?

Las máquinas UVE de ASML funcionan calentando decenas de miles de gotas de estaño por segundo hasta unos 500.000 grados Celsius con láseres de alta potencia, según detalla Xataka. Ese plasma emite luz de 13,5 nanómetros, la radiación que imprime el patrón de la máscara sobre la oblea.

Jayson Stewart, jefe de investigación de ASML, compara ese proceso con una supernova. La onda de choque que genera cada impacto de láser sobre una gota de estaño se describe con las mismas ecuaciones que usan los astrofísicos para los restos de una estrella masiva, aunque una supernova libere alrededor de 10⁴⁵ veces más energía. Ese paralelismo matemático es lo que permitió a ASML modelar con precisión los residuos de estaño dentro de sus equipos más avanzados.

Producir esa luz de forma estable y a potencia suficiente es solo uno de los tres fosos técnicos. Los otros dos son los espejos de precisión atómica y las fotorresinas ultrapuras.

Langdao Silex: qué se sabe del prototipo chino

El prototipo se exhibió en la 26ª Feria de la Industria Internacional de China, según reportó TrendForce citando al Jiefang Daily. La compañía asegura que la mayoría de las piezas críticas se desarrollaron internamente.

Los números que publica en su web, recogidos por TrendForce, muestran el punto exacto donde está la tecnología: su fuente de baja potencia FlintNano LPP-OXXO, basada en plasma producido por láser (LPP), declara un láser de accionamiento de 1.000W, una eficiencia de conversión superior al 2% y una salida UVE de más de 15W, con más de 100 horas de operación continua y una estabilidad de plasma del 3% RMS.

La comparación es lo que importa de verdad. TrendForce subraya que la litografía comercial exige fuentes de varios cientos de watts sostenidos, y recuerda que ASML usa fuentes de 250W en producción en volumen desde 2018 y trabaja hacia los 1.000W. Los técnicos de Langdao Silex admiten que la producción en serie está a entre tres y cinco años y que los dos retos pendientes son subir la potencia de salida y mejorar la estabilidad operativa de largo plazo.

El respaldo tampoco es menor: Langdao Silex se fundó en 2024 con el apoyo de un equipo de investigación del Laboratorio de Descarga de Gas y Plasma de la Universidad de Tsinghua, y ha cerrado varias rondas con inversores estatales y de la industria, incluido China Fortune-Tech Capital, un brazo de inversión ligado a SMIC, según reportó Kucoin News citando al Jiefang Daily.

¿Cuánto le falta a China para alcanzar a ASML?

La brecha es medible. The Diplomat apunta que la fuente de luz UVE china trabaja en el rango de 100 a 150 watts, frente a los 250 a 600 watts de referencia que la industria atribuye a Cymer. También señala que los mejores espejos desarrollados en el Instituto de Óptica de Changchun alcanzan cerca del 65% de reflexión frente al 70% de Zeiss, y que una máquina típica usa entre 10 y 12 espejos, lo que amplifica esa diferencia en cascada.

El otro frente son las fotorresinas. Según The Diplomat, TSMC compra el 95% de sus fotorresinas UVE a Japón y China importa cerca del 90% de su suministro de fotorresina de gama alta del mismo origen, con menos del 1% de las fotorresinas de tipo ArF abastecido localmente. Un avance de laboratorio anunciado por Tsinghua en julio de 2025 es prometedor, pero todavía está lejos de una fábrica real.

Y hay un problema de escala que no se resuelve con una sola pieza. TrendForce recuerda, citando al South China Morning Post, que las máquinas UVE de ASML contienen cientos de miles de componentes de más de 800 proveedores. The Diplomat añade otro dato ilustrativo: el subsistema de láser por sí solo requiere 457.329 piezas, con el láser de CO2 de alta potencia fabricado por la alemana Trumpf y el módulo de fuente de luz por Cymer.

El propio CEO de ASML, Christophe Fouquet, declaró en una llamada con inversores que China tiene "un camino muy, muy largo" por recorrer para igualar su tecnología, según recogió TrendForce.

La vía del DUV: donde China sí está avanzando

Mientras la UVE sigue en laboratorio, la litografía de ultravioleta profunda (DUV) ya está en fábrica. TrendForce reportó que las fábricas de capital chino acumularon unas 343 máquinas DUV de inmersión hacia comienzos de 2026, de las cuales unas 270 son modelos Twinscan NXT:1980i de ASML, y que China gastó más de US$13.000 millones comprando alrededor de 90 de esos sistemas en 2024 y otros 89 en 2025. En 2024 China representó el 41% de las ventas netas de sistemas de ASML por destino de envío, y el 33% en 2025.

Ese parque instalado explica por qué la presión exportadora no frena el corto plazo. Para el medio plazo, Bernstein Research proyectó en un informe que los proveedores locales capturarán el 52% del mercado chino de equipos de fabricación de obleas hacia 2028, frente a un estimado del 28% para este año, según TrendForce.

El límite de esa ruta también tiene nombre: según Channel News Asia, el Kirin 9030 Pro, el chip más avanzado fabricado en China, lanzado a fines de 2025 y producido por SMIC, fue descrito por SemiAnalysis como equivalente en rendimiento a un teléfono Android insignia de tres años atrás.

¿Qué significa esto para tu startup?

Lo primero es no confundir un prototipo con un producto. Langdao Silex demostró que su enfoque técnico es viable, pero pasar de una salida de 15W a los varios cientos de watts que exige la producción comercial no es un ajuste: es otra ingeniería.

Para un founder, el impacto llega por tres vías concretas:

• Rediseña tu supuesto de costo de cómputo a 3-5 años. Si dependes de GPUs para entrenar o inferir, el precio no lo fija solo Nvidia: lo fija la capacidad de fabricación global. La restricción de litografía es una razón estructural para asumir que el costo por hora de cómputo seguirá siendo un riesgo de tu P&L, no una variable estable.
• Diversifica proveedores de silicio y de nube por región. Una cadena dividida en dos bloques —uno con UVE y otro con DUV— implica dos catálogos de chips, dos curvas de precio y dos marcos regulatorios. Si vendes hardware o infraestructura, evalúa hoy qué porcentaje de tu factura de componentes queda expuesto a un solo bloque.
• Vigila la localización de componentes como señal de inversión. La adopción de insumos nacionales en China (del 28% al 52% proyectado por Bernstein) abre oportunidades para proveedores de precisión, óptica y metrología fuera de Asia, y también para equipos que se posicionen como alternativa neutral.

La conclusión de fondo: el prototipo de Langdao Silex es un hito real y también una medida de la distancia que queda. China tiene un camino claro y financiado hacia la UVE propia, y ese camino define los precios del hardware que tu startup va a comprar durante la próxima década.

Fuentes

• Xataka: China ya tiene un prototipo propio de una fuente de luz UVE
• TrendForce: China Unveils 90%-Domestic EUV Light Source Prototype
• The Diplomat: China's EUV Lithography Progress
• Channel News Asia: Can China's chip ambitions reshape the global tech landscape?
• TrendForce: China Reportedly Spent $13B+ Stockpiling ASML DUV Tools
• Kucoin News: Chinese Start-up Unveils EUV Light-Source Prototype